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 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して超並列電子ビーム描画装置の開発

超並列電子ビーム描画装置の開発 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

A5判 236ページ 並製
定価:3,000円+税
ISBN978-4-86163-296-9 C3054
奥付の初版発行年月:2018年06月 / 発売日:2018年06月上旬

内容紹介

フォトマスクの転写でなく、電子ビームでウエハ上に直接パターンを描画する方法は、集積回路の多品種少量生産や開発に適している。これは設計データから直接に試作品や製品を作る「ディジタルファブリケーション」と呼ばれる技術である。しかし集積回路の微細化・高密度化の進歩により、今では直径300mmのSiウエハ上に1兆(1012)個ほどのトランジスタが形成されており、このように膨大な数の描画を行う必要がある。我々は多数の電子ビームを集積回路で制御するアクティブマトリックス超並列電子ビームでこれを可能にすべく、そのプロトタイプを実現する研究を10年以上進めてきた。1万本の電子源を開発し、これを用いた超並列電子ビーム描画(Massive Parallel Electron Beam Write (MPEBW))装置を設計・試作し、そのプロトタイプによる実証実験を行った。本書はその成果をまとめたもので、将来の実用化につながることを期待する。


目次

第1章 マスクレス露光と電子ビーム描画・転写
第2章 並列電子ビーム描画の課題
第3章 並列電子ビーム描画装置用電子源
第4章 超並列電子ビーム描画(MPEBW)
第5章 応用と今後の課題
 


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